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企业资讯 > 如何调控手术室净化工程温湿度参数

如何调控手术室净化工程温湿度参数
来自:中国中心供氧在线 发布日期:2020/2/5 浏览统计:0
核心提示:如何调控手术室净化工程温湿度参数



       手术室净化工程对温湿度有哪些要求?手术室净化工程是一项很重要的工作,下面我们小编就来和大家分享一下它对温湿度的要求都有哪些,相信了解了这些之后大家可以比较好的进行工作。

       洁净手术室对温、湿度有着相应的要求,因为冬季医 生不宜多空衣服,而病人手术部位要暴露出来,手术室内温度应比一般房间温度高些。而夏季室温过高又会引起医 生和病人出汗,不利于手术部位的卫生和手术的顺利进行,气温过高甚至会引起病人和医生中暑,所以夏季手术室内温度又应比舒 适性空调房间温度低些。空气的相对温度过大过小都会给病人和医生带来不舒适感,相对湿度大还容易给某些细 菌提供迅 速繁殖的条件并带来其它危害。因此,根据国外资料统计,手术室内应保持的空气温度:冬季为24~26℃,夏季23~26℃;全年的相对湿度为55百分之~60。

        洁净手术室对温度的要求呈现日益减小的趋势。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,先与细 胞壁的脂类双键起反应,穿破细 胞壁,进入细 胞壁内,作用于外壳脂蛋白和内面的脂多糖,使细 胞的通透性发生改变,导致细胞溶解、坏死。杀 菌速度快,杀灭不同细 菌有不同的浓度阈值。
        手术室净化工程湿度过高 产生的问题更多。相对湿度超过55百分之时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各 种事故。相对湿度在50百分之时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐不易清 除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30百分之时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适的温度范围为35—45百分之。
 

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